堪比7nm工艺 中芯国际N+1节点计划投产

  在去年，中芯国际曾表示，在第四季度将会开启14nm FinFET制程的量产芯片，此外，该公司也正在开发下一代节点(N+1)，并宣称此节点可以媲美7nm工艺的部分特性。

  据悉，中芯国际下一节点相比于14nm制程在性能上提升20%，功耗降低57%，而且逻辑面积减少63%。

  但是据了解，中芯国际键N+1节点定位于工具成本吸引力的芯片制造技术，该公司称，N+1的目标是低成本应用，与7nm相比，能有10%的优势。

  而且，有一点值得注意，中芯国际的N+1并没有采用极紫外光刻(EUVL)，所以，中芯国际不用从ASML购买其他很昂贵的设备。

  如果顺利的话，N+1制程将会在2020年第四季度进行风险测试，2021或2022年进行大批量生产。

  据资料显示，中芯国际在去年集邦咨询发布的全球十大晶圆代工厂最新营收排名中，排进了世界前五的位置，这也说明中芯国际在全球市场的竞争力越来越强。

  作为中国目前最大的晶圆代工厂，中芯国际的制程工艺一直受到了不少人的关注，而最近14nm、12nm都进展稳定，所以也受到了很多投资机构的看好，而随着中芯国际技术不断发展以及芯片国产率的增加，高盛预测他们在2020年和2021年营收分别会达到36.72亿和42.07亿。

  中芯国际作为国内最负盛名的晶圆代工厂，一举一动都受到了大家的关注，而此次他们计划投产N+1制程，也将进一步推动国内的芯片行业